EDI超純水設(shè)備清洗與消毒操作規(guī)程

EDI超純水設(shè)備在運行中會出現(xiàn)污堵等現(xiàn)象，需要對EDI進行正確的清洗以及消毒，以保障超純水設(shè)備的正常運行。水處理之家網(wǎng)詳細講述EDI超純水設(shè)備的清洗與消毒方法及其注意事項。

1.EDI超純水設(shè)備清洗原因

隨著工作時間的累積，需要對EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：
– 硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)
– 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）
– 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢
– EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢
– 以上所有情況一起出現(xiàn)

2.EDI超純水設(shè)備清洗程序及模式

清洗程序

清洗程序 1: 濃水管線清洗及消毒

清洗程序 2: 淡水管線清洗及消毒

清洗程序 3: 極水管線清洗及消毒

清洗及消毒模式
首選清洗模式：直通，逆流（低及 高 pH值都可）；再循環(huán)（氧化劑）
可選清洗模式: 再循環(huán)或直通順流(低及高 pH值都可)
注意: 由于硬度結(jié)垢幾乎完全發(fā)生在濃水室和極水室，淡水室的低PH清洗并不常用。在極端嚴重結(jié)垢或十分混亂的條件下，需要保留淡水室的低PH清洗。

3.超純水設(shè)備EDI清洗消毒最佳方法

在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。以下的圖表簡要的概括了污垢情況以及最佳的清洗/ 消毒程序。例行的消毒最好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。

問題 所需清洗 / 消毒 程序

1.硬度或其他金屬 結(jié)垢
低 pH 值 濃水 : 程序 1 極水 : 程序 3
有機污堵 高 pH 淡水 : 程序 2

2.有機污堵及硬度或其 他金屬結(jié)垢
1. 低 pH 值
濃水:低 pH 程序 1;
淡水:低 pH 程序 2;
極水:低 pH 程序 3;

2. 高 pH 值
濃水: 高 pH 值，程序 1
淡水: 高 pH 值，程序 2
極水: 高 pH 值，程序 3

3.生物污堵
高pH值
濃水:程序1
淡水:程序2
極水:程序 3

4.生物污堵及硬度或其他金屬結(jié)垢
1.低 pH 值
濃水:低pH值程序1;
淡水:低pH值程序2;
極水:低pH值程序3;
2.高pH值
濃水:高pH值程序1
淡水:高pH值程序2
極水:高pH值程序3

5.嚴重生污物堵及硬度 或其他金屬結(jié)垢
1.低 pH 值
濃水:低 pH 程序 1;
淡水:低 pH 程序 2;
極水:低 pH 程序 3;
2.低濃度氧化劑消毒
3.高 pH 值
濃水: ;高 pH 值，程序 1
淡水: ;高 pH 值，程序 2
極水: ;高 pH 值，程序 3

EDI超純水設(shè)備清洗及說明

對于清洗系統(tǒng)和消毒系統(tǒng)而言有四種類型：低pH值型;高pH值型;低濃度氧化消毒清洗型；及高溫消毒型 。關(guān)于低 pH值型，高 pH值型，低濃水氧化消毒清洗型，及高溫消毒型的描述在下面的內(nèi)容中作詳細闡述。當需要選擇高溫消毒時，則要啟動高溫消毒程序。
單獨的清洗及消毒程序只針對淡水，濃水及極水管線而言。清洗及消毒的循環(huán)過程可獨立完成。獨立的循環(huán)程序也可同時進行以減少總的清洗時間。由于極水循環(huán)的低清洗流速，大多數(shù)情況下清洗過程必須同時與濃水循環(huán)清洗和淡水循環(huán)清洗同時進行。清洗水箱及水泵是必備的（CIP系統(tǒng)）。總共需要五條清洗流水線：兩個進口（淡水進口和濃水進口） 以及三個出口（淡水出口，極水出口和濃水排放）。

4.超純水設(shè)備中CIP及EDI系統(tǒng)清洗過程設(shè)置

參看以下獨立循環(huán)清洗程序以了解最適合您的清洗模式。
排空清洗系統(tǒng)。
若是使用直通清洗方法，則不能在開始清洗之前或在清洗步驟之間排空 EDI系統(tǒng)（如果已工作超過一個步驟）。若是使用再循環(huán)清洗方法，則在開始清洗之前或在清洗過程中排空EDI系統(tǒng)（如果已工作超過一個步驟）。
通過關(guān)閉 EDI系統(tǒng)淡水進口，淡水出口，淡水沖洗出口，濃水排放，及極水出口閥將 EDI系統(tǒng)與上游及下游隔離開。
通過關(guān)閉濃水進口隔離閥來將濃水管線與淡水和極水管線隔離開。